九维光子科技申请GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法专利，实现更高的消光比_农村发展

九维光子科技申请GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法专利，实现更高的消光比

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2026-01-24 08:51:59

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国家知识产权局信息显示，九维光子科技（昆山）有限公司申请一项名为“一种GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法”的专利，公开号CN121386222A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法，将GeSe材料作为相变光开关的相变层相比传统的三元或四元相变材料，具有组分简单、制备工艺稳定、环境友好等优点。通过本发明开发的激光热敏光刻制备方法，可使本发明制备的光开关实现更高的消光比，确保了光信号的有效切换；同时具有更高的光刻精度，最小特征尺寸可达100‑200nm，提高了光开关的集成度和性能，并能够更加精准的控制GeSe材料在光开关中的相变过程，进一步帮助光通信器件实现低功耗、高集成、高可靠方向发展。

天眼查资料显示，九维光子科技（昆山）有限公司，成立于2024年，位于苏州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本360万人民币。通过天眼查大数据分析，九维光子科技（昆山）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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