国家知识产权局信息显示,九维光子科技(昆山)有限公司申请一项名为“一种GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法”的专利,公开号CN121386222A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本发明公开了一种GeSe相变光开关及其激光热敏光刻制备方法,将GeSe材料作为相变光开关的相变层相比传统的三元或四元相变材料,具有组分简单、制备工艺稳定、环境友好等优点。通过本发明开发的激光热敏光刻制备方法,可使本发明制备的光开关实现更高的消光比,确保了光信号的有效切换;同时具有更高的光刻精度,最小特征尺寸可达100‑200nm,提高了光开关的集成度和性能,并能够更加精准的控制GeSe材料在光开关中的相变过程,进一步帮助光通信器件实现低功耗、高集成、高可靠方向发展。
天眼查资料显示,九维光子科技(昆山)有限公司,成立于2024年,位于苏州市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本360万人民币。通过天眼查大数据分析,九维光子科技(昆山)有限公司共对外投资了1家企业,专利信息4条,此外企业还拥有行政许可3个。
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来源:市场资讯
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